外延产品

功率器件

代加工平台
产品类别

加工工序
01光刻(最小线宽0.35um)
02金属溅射(Ti、Al、TiN、Cu、Au),金属蒸发(Ti、Al、Ni、Pt、Mo、Ta、Ag、Co、Cr等)
03刻蚀GaN、Si、SiO2、Si3N4、Al、TiN、Ni、Cr、Pt等
04薄膜 PECVD沉积SiO2、Si3N4,ALD 沉积Al2O3、AlN,LPCVD 生长多晶硅、Si3N4和热氧沉积,氧化扩散等
05离子注入N、B、P、BF2、As、Ar
06TSV工艺
07磨片划片和测试等